References
- Phys. Rev. Lett. v.71 M. M. Turner
- J. Korean Phys. Soc. v.28 N. S. Yoon;S. S. Kim;C. S. Chang;Duk-In Choi
- J. Vac. Sci. Technol. B v.12 P. L. G. Ventzek;R. J. Hoekstra;M. J. Kushner
- J. Vac. Sci. Technol. B v.12 P. L. G. Ventzek;T. J. Sommerer;R. J. Hoekstra;M. J. Kushner
- J. Vac. Sci. Technol. B v.12 R. A. Stewart;P. Vitello;D. B. Graves
- J. Vac. Sci. Technol. A v.12 A. P. Paranjpe
- J. Vac. Sci. Technol. A v.12 G. Dipeso;V. Vahedi;D. W. Hewett;T. D. Rognlien
- Phys. Rev. E v.54 N. S. Yoon;S. S. Kim;C. S. Chang;Duk-In Choi
- Plasma Sources Sci. Technol. v.3 R. B. Piejak;V. A. Godyak;B. M. Alexandrovich
- Phys. of Fluids v.16 H. A. Blevin;J. A. Reynolds;P. C. Thonemann
- IEEE Trans. Plasma Sci. v.19 R. K. Porteous;D. B. Graves
- Phys. Lett. v.89A V. A. Godyak
- IEEE Trans. Plasma Sci. v.18 V. A. Godyak;N. Sternberg
- J. Vac. Sci.Technol. A v.11 J. Hopwood;C. R. Guarnier;S. J. Whitehair;J. J. Cuomo
- J. Vac. Sci.Technol. A v.11 J. Hopwood;C. R. Guarnier;S. J. Whitehair;J. J. Cuomo
- IEEE Trans. Plasma Sci. v.23 N. S. Yoon;Nak-Heon Choi;Hyung-Bin Park;Duk-In Choi