Korean Journal of Materials Research (한국재료학회지)
- Volume 6 Issue 9
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- Pages.861-870
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- 1996
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- 1225-0562(pISSN)
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- 2287-7258(eISSN)
Investigation of Thin Film Structures of Cobalt Silicides Formed with a Co Monolayer and a Co/Ti Bilayer
Co 단일층과 Co/Ti 이중층에 의하여 형성된 코발트 실리사이드막의 구조
- Lee, Jong-Mu (Dept.of Metallurgical Engineering, Inha University) ;
- Lee, Byeong-Uk (Dept.of Metallurgical Engineering, Inha University) ;
- Gwon, Yeong-Jae (Dept.of Metallurgical Engineering, Inha University) ;
- Kim, Yeong-Uk (Samsung Electronics Corporation) ;
- Lee, Su-Cheon (Samsung Electronics Corporation)
- Published : 1996.09.01
Abstract
Co 단일층과 Co/Ti 이중층으로부터 형성된 코발트 실리사이드를 최종 막의 구조와 에피텍셜 성장 측면에서 조사하였다. Co 단일층은 그 두께와는 관계없이 전체 막이 CoSi2로 변화된 반면에, Co/Ti 이중층 구조에서는 Co와 Ti 막의 두께비가 최종막 구조에 상당한 영향을 주었다. 그리고 CoSi2막의 에피 성장이 Co 단일층에서 보다는 Co/Ti 이중층에서 보다 용이하였다.
Keywords