Journal of the Korean Magnetics Society (한국자기학회지)

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Exchange Bias Perpendicular Magnetic Anisotropy and Thermal Stability of (Pd/Co)N/FeMn Multilayer

(Pd/Co)N/FeMn 다층막에서의 교환바이어스 수직자기이방성과 열적안정성

  • Published : 2004.08.01
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Abstract

Magnetic properties and thermal stability by exchange biased perpendicular magnetic anisotropy in (Pd/Co)$_{N}$FeMn multilayer deposited by do magnetron sputtering system are investigated. We measured the perpendicular magnetization curves of (Pd(0.8nm)/Co(0.8nm)$_{5}$FeMn multilayer as function of FeMn thickness and annealing temperature. As FeMn thickness increases from 0 to 21nm, the perpendicular exchange bias(Hex) obtained 127 Oe at FeMn thickness 15nm. As the annealing temperature increases to 24$0^{\circ}C$, the E$_{ex}$ increased from 115 Oe to 190 Oe and disappeared exchange biased perpendicular magnetic anisotropy effect at 33$0^{\circ}C$.

본 연구는 (pd/Co)$_{N}$FeMn 구조의 다층박막을 dc 마그네트론 스퍼터링 시스템으로 증착하여 교환결합된 수직이방성에 대한 자기적 특성과 열적안정성을 조사하였다. 반강자성 FeMn 두께를 0-2lnm에서 변화시키면서 측정한 결과 Ta(1.9 nm)/(Pd(0.8nm)/Co(0.8nm)$_{5}$Mn(15nm)/Ta(1.9nm)에서 127 Oe교환바이어스세기(exchange biasing field: H$_{ex}$)를 얻었다. 그리고 이 구조에서 열적 안정성을 조사하기 위하여 온도 변화에 따른 H$_{ex}$변화를 확인한 결과, 24$0^{\circ}C$까지는 H$_{ex}$가 115 Oe에서 195 Oe까지 증가하였고, 그 이후 33$0^{\circ}C$에서 교환 결합된 수직자기이방성 곡선이 사라지는 것을 관찰하였다.

Keywords

References

  1. Phys. Rev. Lett v.91 Z. Y. Liu(et al.) https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.91.037207
  2. J. Appl. Phys. v.93 F.Garcia(et al.) https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.91.037207
  3. Phys. Rev. v.B69 S. M. Zhou;L. Sun;P. C. Searson;C. L. Chien
  4. J. Magn. Magn. Mater v.151 K. Hong;N. Giordano https://doi.org/10.1063/1.1558096
  5. J. Magn. Soc. Jap. v.15 S. Haan;C. Lodder;T. J. A. Popma https://doi.org/10.1103/PhysRevB.69.024408
  6. J. Magn. Magn. Mater v.35 K. Okamoto https://doi.org/10.1016/0304-8853(83)90539-5
  7. IEEE Trans. Magn. v.35 S. Nakagawa;K. Takayama;A. Sato;M. Naoe https://doi.org/10.1109/20.800970
  8. Appl. Phys. Lett. v.83 F. Garcia;J. Sort;B. Rodmacq;S. Auffret;B. Dieny https://doi.org/10.1016/0304-8853(83)90539-5
  9. J. Appl. Phys. v.93 S. W. Kim(et al.) https://doi.org/10.1109/20.800970
  10. J. Mag. Mater. v.89 S. S. Lee;D. G. Hwang;C. M. Park https://doi.org/10.1063/1.1619562
  11. J. Appl. Phys. v.89 K. Y. Kim;S. H. Jang;K. H. Shin;H. J. Kim;T. Kang https://doi.org/10.1063/1.1557238
  12. Appl. Phys. Lett. v.79 K. Li;Y. Wu;J. Qin;G. Han;Z. Guo;H. Xie;T. Chong https://doi.org/10.1063/1.1421228
  13. K. Y. Kim, S. H. Jang, K. H. Shin, H. J. Kim, and T. Kang, J. Appl. Phys., 89, 7612(2001). https://doi.org/10.1063/1.1361056
  14. K. Li, Y. Wu, J. Qin, G. Han, Z. Guo, H. Xie, and T. Chong, Appl. Phys. Lett., 79, 3663(2001). https://doi.org/10.1063/1.1421228