The Physical Property and Application of Carbon Nanotube

탄소나노튜브의 물성과 응용

Lee, Young-Hee
이영희

  • Published : 20050800

Abstract

Keywords

References

  1. S. Iijima, Nature 354, 56 (1991).; S. Iijima, T. Ichihashi, Naure 363, 603 (1993)
  2. D. S. Bethune, C. H. Kiang, M. S. de Vries, G. Gorman,R. Savoy, J. Vazquez and R. Beyers, Nature363, 605 (1993) https://doi.org/10.1038/363603a0
  3. R. A. Jishi, M. S. Dresselhaus and G. Dresselhaus,Phys. Rev. B 47, 16671 (1993)
  4. A. Thess, R. Lee, P. Nikolaev, H. Dai, P. Petit, J. Robert, C. Xu, Y. H. Lee, S. G. Kim, A. G. Rinzler, D. T. Colbert, G. E. Scuseria, D. Tomanek, J. E. Fischer and R. E. Smalley, Science 273, 483 (1996) https://doi.org/10.1126/science.273.5274.483
  5. M. S. Dresselhause, G. Dresselhause and P. C. Eklund,Science of Fullerenes and Carbon Nanotubes,Chapter 19, Academic Press (1996)
  6. R. Saito, M. Fujita, G. Dresselhaus and M. S. Dresselhaus,Phys. Rev. B 46, 1804 (1992)
  7. D. H. Oh and Y. H. Lee, Phys. Rev. B 58, 7407(1998)
  8. R. Saito, G. Dresselhause and M. S. Dresselhause,J. Appl. Phys. 73, 494 (1993)
  9. M. S. Dresselhause, R. A. Jishi, G. Dresselhause,D. Inomata, K. Nakao and R. Saito, Molecular Materials4, 27 (1994)
  10. J. C. Charlier and J. P. Michenaud, Phys. Rev.Lett.70, 1858 (1993)
  11. A. M. Rao, E. Richter, S. Bandow, B. Chase, P. C.Eklund, K. W. Williams, M. Menon, K. R. Subbaswamy,A. Thess, R. E. Smalley, G. Dresselhausand M. S. Dresselhaus, Science 275, 187 (1997)
  12. H. Kuzmany, W. Plank, M. Hulman, C. Kramberger,A. Gruneis, T. Picher, H. Peterlik and Y.Achiba, Eur. Phys. J. B 22, 307 (2001)
  13. M. J. O’Cornell, S. M. Bachilo, C. B. Huffman, V.C. Moore, M. S. Strano, E. H. Harzo, K. L. Rialon,P. J. Boul, W. H. Noon, C. Kittrell, J. Ma, R. H.Hauge, R. B. Weismann and R. E. Smally, Science297, 583 (2002)
  14. S. M. Bachilo, M. S. Strano, C. Kittrell, R. H.Hauhe, R. E. Samlly and R. B. Weisman, Science298, 2361 (2002)
  15. C. L. Kane and E. J. Mele, Phys. Rev. Lett. 90,207401 (2003)
  16. C. D. Spataru, S. I. Beigi, L. X. Benedict, and S.G. Louie, Phys. Rev. Lett. 92, 077402-1 (2004) https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.92.077402
  17. J. Lefebvre, Y. Homma and P. Finnie, Phys. Rev.B 90, 217401-1 (2003) https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.90.217401
  18. J. Lefebvre, P. Finnie and Y. Homma, Phys. Rev.B 70, 045419 (2004)
  19. H. Kataura, Y. Kumazawa Y. Maniwa, I. Umezu,S. Suzuki, Y. Ohtsuka and Y. Achiba, Synth. Met.103, 255 (1999)
  20. S. Iijima, Nature (London) 354, 56 (1991)
  21. C. Journet, W. K. Maser, P. Bernier, A. Loiseau,M. L. de la Chapelle, S. Lefrant, P. Deniard, R.Lee and J. E. Fischer, Nature 388, 756 (1997)
  22. E. F. Kukovitsky, S. G. Lvov and N. A. Sainov,Chem. Phys. Lett. 317, 65 (2000)
  23. Y. Ando, X. Zhao, H. Kataura, Y. Achiba, K.Kaneto, M. Tsuruta, S. Uemura and S. Iijima, DiamondRelat. Mater. 9, 847 (2000)
  24. N. Demoncy, O. Stephan, N. Brun, C. Colliex, A.Loiseau and H. Pascard, Synth. Met. 103, 2380(1999)
  25. B. Liu, T. Wagberg, E. Olssen, R. Yang, H. Li, S.Zhang, H. Yang, G. Zou and B. Sundqvist, Chem.Phys. Lett. 320, 365 (2000)
  26. Z. Shi, Y. Lian, X. Zhou, Z. Gu, Y. Zhang, S.Iijima, H. Li, K. T. Yue and S. Zhang, J. Phys.Chem. B 103, 8698 (1999)
  27. C. H. Kiang, J. Phys. Chem. A. 104, 2454 (2000)
  28. T. Zhao and Y. Liu, Carbon 42, 2765 (2004)
  29. M. Ishigami, J. Cumings, A. Zettl and S. Chem,Chem. Phys. Lett. 319, 457 (2000)
  30. N. Sano, H.Wang, M. Chhowalla, M. I. Alexandrouand G. A. J. Amaratunga, Nature 414, 527 (2001)
  31. L. P. Biro, Z. E. Horvath, L. Szalmas, K. Kertesz,F. Weber, G. Juhasz, G. Radnoczi and J. Gyulai,Chem. Phys. Lett. 372, 399 (2003)
  32. J. L. Hutchison, N. A. Kiselev, E. P. Krinichnaya,A. V. Krestinin, R. O. Loutfy, A. P. Morawsky,V. E. Muradyan, E. D. Obraztsova, J. Sloan, S.V. Terekhov and D. N. Zakharov, Carbon 39, 761(2001) https://doi.org/10.1016/S0008-6223(00)00217-7
  33. T. Guo, P. Nikolaev, A. Gthess, D. T. Colbert andR. E. Smalley, Chem. Phys. Lett. 243, 49 (1995)
  34. E. Munoz, W. K. Maser, A. M. Benito, M. T.Martinez, G. F. Fuente, Y. Maniette, A. Righi,E. Anglaret and J. L. Sauvajol, Carbon 38, 1445(2000)
  35. W. K. Maser, E. Munoz, A. M. Benito, M. T. Martinez,G. F. Fuente, Y. Maniette, E. Anglaret andA. Righi, Chem. Phys. Lett. 292, 587 (1998)
  36. M. Yudasaka, T. Komatsu, T. Ichihashi and S.Iijima, Chem. Phys. Lett. 278, 102 (1997)
  37. M. Yudasaka, M. Zhang and S. Iijima, Chem. Phys.Lett. 323, 549 (2000)
  38. M. F. Zhang, M. Yudasaka and S. Iijima, Chem.Phys. Lett. 336, 196 (2001) https://doi.org/10.1016/S0009-2614(01)00102-6
  39. R. Sen, Y. Ohtsuka, T. Ishigaki, D. Kasuya, S.Suzuki, H. Kataura and Y. Achiba, Chem. Phys.Lett. 332, 467 (2000)
  40. H. Kataura, Y. Kumazawa, Y. Maniwa, Y. Ohtsuka,R. Sen, S. Suzuki and Y. Achiba, Carbon 38,1691 (2000)
  41. H. Zhang, Y. Ding, C. Wu, Y. Chen, Y. Zhu, Y.He and S. Zhong, Physica B. 325, 224 (2003)
  42. S. Lebedikin, P. Schweiss, B. Renker, S. Malik, F.Hennrich, M. Neumaier, C. Stoermer and M. M.Kappes, Carbon 40, 417 (2002)
  43. N. Braidy, M. A. El Khakani and G. A. Botton,Chem. Phys. Lett. 354, 88 (2002)
  44. P. Nikolaev, M. J. Bronikowski, R. K. Bradley, F.Rohmund, D. T. Colbert, K. A. Smith and R. E.Smalley, Chem. Phys. Lett. 313, 91 (1999)
  45. Z. F. Ren, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang,P. Bush, M. P. Siegal and P. N. Provencio, Science282, 1105 (1998)
  46. Z. P. Huang, J. W. Xu, Z. F. Ren, J. H. Wang, M.P. Siegal and P. N. Provencio, Appl. Phys. Lett.73, 3845 (1998)
  47. J. -H. Han, W. Yang, J. -B. Yoo and C. -Y. Park,J. Appl. Phys. 39, 7363 (2000)
  48. J. -H. Han, B. Kim, J. -B. Yoo and C. -Y. Park,Surface Coat. Technol. 131, 93 (2000)
  49. Y. C. Choi, Y. M. Shin, Y. H. Lee, B. S. Lee, G. S.Park, W. B. Choi, N. S. Lee and J. M. Kim, Appl.Phys. Lett. 76, 2367 (2000)
  50. W. Z. Li, S. S. Xie, L. X. Qian, B. H. Chang, B. S.Zou, W. Y. Zhou and G. Wang, Science 274, 1701(1996)
  51. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W.Tombler, A. M. Cassell, and H. Dai, Science 283,512 (1999)
  52. R. O. Jenkins and W. G. Trodden, Electron andIon Emission, Dover. New York, 54 (1965)
  53. R. F. Bunshah, Handbook of Deposition Technologiesfor Films and Coatings (Noyes Publications,New Jersey) Chap. 5 (1994)
  54. S. S. Xie, B. H. Chang, W. Z. Li, Z. W. Pan, L. F.Sun, J. M. Mao, X. H. Chen, L. X. Qian and W.Y. Zhou, Adv. Mater. 11, 1135 (1999)
  55. Y. C. Choi, D. J. Bae, B. S. Lee, Y. H. Lee, G. S.Park, W. B. Choi, N. S. Lee and J. M. Kim, J. Vac.Sci. Technol. A 18, 1864 (2000)
  56. Y. M. Shin, S. Y. Jeong, H. J. Jeong, S. J. Eum,C. W. Yang, C. Y. Park and Y. H. Lee, J. Cryst.Growth. 271, 81 (2004)
  57. Y. Li, W. Kim, Y. Zhang, M. Rolandi, D. Wangand H. Dai, J. Phys. Chem. B 105, 11424 (2001) https://doi.org/10.1021/jp003045v
  58. L. An, J. M. Owens, L. E. Mcneil and J. Liu, J.Am. Chem. Soc. 124, 13688 (2002)
  59. M. Su, B. Zheng and J. Liu, Chem. Phys. Lett.322, 321 (2000)
  60. A. M. Cassell, J. A. Raymakers, J. Kong and H.Dai, J. Phys. Chem. B 103, 6484 (1999)
  61. B. C. Liu, S. H. Tang, Z. L. Yu, B. L. Zhang, T.Chen and S. Y. Zhang, Chem. Phys. Lett. 357, 297(2002)
  62. J. -F. Colomer, C. Stephan, S. Lefrant, G. V. Tendeloo,I. Willems, Z. Konya, A. Fonseca, Ch. Laurentand J. B. Nagy, Chem. Phys. Lett. 317, 83(2000)
  63. H. J. Jeong, K. H. An, S. C. Lim, M. S. Park, J. S.Chang, S. E. Park, S. J. Eum, C. W. Yang, C. Y.Park and Y. H. Lee, Chem. Phys. Lett. 380, 263(2003)
  64. H. J. Jeong, K. K. Kim, S. Y. Jeong, M. H. Park,C. W. Yang and Y. H. Lee, J. Phys. Chem. B 108,17695 (2004) https://doi.org/10.1021/jp035904w
  65. G. G. Tibbetts, C. A. Bernardo, D. W. Gorkiewitzand R. L. Alig, Carbon 32, 569 (1994)
  66. G. G. Tibbetts, D. W. Gorkiewitz and R. L. Alig,Carbon 31, 809 (1993)
  67. M. Endo, K. Takeuchi, K. Kobori, K. Takahashi,H. W. Kroto and A. Sarkar, Carbon 33, 873 (1995) https://doi.org/10.1016/0008-6223(95)00028-C
  68. B. C. Satishkumar, A. Govindaraj, R. Sen and C.N. R. Rao, Chem. Phys. Lett. 293, 47 (1998)
  69. R. Sen, A. Govindaraj, B. C. Satishkumar and C.N. R. Rao, Chem. Phys. Lett. 293, 276 (1998)
  70. R. Sen, A. Govindaraj, B. C. Satishkumar and C.N. R. Rao, Chem. Phys. Lett. 9, 2078 (1997)
  71. R. Andrews, D. Jacques, A. M. Rao, F. Derbyshire,D. Qian, X. Fan, E. C. Dickey and J. Chen, Chem.Phys. Lett. 303, 467 (1999)
  72. A. Cao, L. Ci, G. Wu, B. Wei, C. Xu, L. Liang andD. Wu, Carbon 39, 137 (2001) https://doi.org/10.1016/S0008-6223(00)00217-7
  73. A. M. Benito, Y. Maniette, E. Munoz and M. T.Martinez, Carbon 36, 681 (1998)
  74. F. Rohmund, L. K. L. Falk, and E. E. B. Campbell,Chem. Phys. Lett. 328, 369 (2000)
  75. H. M. Cheng, F. Li, X. Sun, S. D. M. Brown, M.A. Pimenta, A. Marucci, G. Dresselhaus and M. S.Dresselhaus, Chem. Phys. Lett. 289, 602 (1998)
  76. D. C. Li, L. Dai, S. Huang, A. W. H. Mau and Z.L. Wang, Chem. Phys. Lett. 316, 349 (2000)
  77. Y. Saito, Y. Tani, N. Miyagawa, K. Mitsushima,A. Kasuya and Y. Nishina, Chem. Phys. Lett. 294,593 (1998)
  78. Z. J. Shi, Y. F. Lian, X. H. Zhou, Z. N. Gu, Y.Zhang, S. Iijima, L. X. Zhou, K. T. Yue and S. L.Zhang, Carbon 37, 1449 (1999)
  79. A. Rinzler, J. Liu, H. Dai, P. Nikolaev, C. Huffman,F. Rodriguez-Macias, P. Boul, A. Lu, D. Heymann,D. T. Colbert, R. S. Lee, J. Fischer, A. Rao, P. C.Eklund and R. E. Smally, Appl. Phys. A 67, 29(1998)
  80. K. Tohji, H. Takahashi, Y. Shinoda, N. Shimizu,B. Jeyadevan, I. Matsuoka, Y. Saito, A. Kasuya,S. Ito and Y. Nishina, J. Phys. Chem. B 101, 1974(1997)
  81. J. Liu, A. G. Rinzler, H. Dai, J. H. Hafner, R.K. Bradley, P. J. Boul, A. Lu, K. Shelimov, C. B.Huffman, F. Rodriguez-Macias, Y. S. Shon, T. R.Lee, D. T. Colbert and R. E. Smally, Science 280,1253 (1998)
  82. T. W. Ebbesen, P. M. Ajayan, H. Hiura and K.Tanigaki, Nature 367, 519 (1994)
  83. X. Y. Zhu, S. M. Lee, Y. H. Lee and T. Frauenheim,Phys. Rev. Lett. 85, 2757 (2000)
  84. J. L. Zimmerman, R. K. Bradley, C. B. Huffman,R. H. Hauge and J. L. Margrave, Chem. Mater. 12,1361 (2000)
  85. S. Bandow, A. M. Rao, K. A. Williams, A. Thess,R. E. Smalley and P. C. Eklund, J. Phys. Chem. B101, 8839 (1997)
  86. B. Konstantin, K. B. Shelimov, R. O. Esenaliev,A. G. Rinzler, C. B. Huffman, and R. E. Smalley,Chem. Phys. Lett. 282, 429 (1998)
  87. G. S. Duesberg, M. Burghard, J. Muster, J. Philippand S. Roth, Chem. Commun. 3, 435 (1998)
  88. Y. S. Park, K. S. Kim, H. J. Jeong, W. S. Kim, J.-M. Moon, K. H. An, D. J. Bae, Y. S. Lee, G. -S.Park and Y. H. Lee, Synth. Met. 140, 1 (2004)
  89. W. Huang, Y. Wang, G. Luo and F. Wei, Carbon41, 2585 (2003) https://doi.org/10.1016/S0008-6223(02)00262-2
  90. M. Yudasaka, H. Kataura, T. Ichihashi, L. C. Qin,S. Kar and S. Iijima, Nano Lett. 1, 487 (2001) https://doi.org/10.1021/nl0001914
  91. I. W. Chiang, B. E. Brinson, R. E. Smalley, J. L.Margrave and R. H. Hauge, J. Phys. Chem. B 105,1157 (2001) https://doi.org/10.1021/jp003045v
  92. M. E. Itkis, D. E. Perea, S. Niyogi, S. M. Rickard,M. A. Hamon, H. Hu, B. Zhao and R. C. Haddon,Nano Lett. 3, 309 (2003) https://doi.org/10.1021/nl020207l
  93. R. S. Wagner and W. C. Ellis, Appl. Phys. Letts.4, 8 (1964)
  94. Y. H. Lee, S. G. Kim and D. Tomanek, Phys. Rev.Letts.78, 2393 (1997)
  95. W. Z. Li, S. S. Xie, L. X. Qian, B. H. Chang, B.S. Zou, W. Y. Zhou, R. A. Zhao and G. Wang,Science 274, 5293 (1996)
  96. C. J. Lee and J. H. Park, Appl. Phys. Lett. 77,3397 (2000)
  97. J. Gavillet, A. Loiseau, C. Journet, F. Willaime,F. Ducastelle and J. -C. Charlier, Phys. Rev. Lett.87, 275504 (2001)
  98. M. Yudasaka, R. Kikuchi, Y. Ohki, E. Ota and S.Yoshimura, Appl. Phys. Lett. 70, 1817 (1997)
  99. H. Murakami, M. Hirakawa, C. Tanaka and H. Yamakawa,Appl. Phys. Lett. 76, 1776 (2000)
  100. M. Okai, T. Muneyoshi, T. Yaguchi and S. Sasaki,Appl. Phys. Lett. 77, 3468 (2000)
  101. H. J. Jeong, Y. M. Shin, S. Y. Jeong, Y. C. Choi,Y. S. Park, S. C. Lim, G. S. Park, I. T. Han, J.M. Kim, and Y. H. Lee, Chem. Vap. Depos. 8, 11(2002)
  102. W. A. de Heer, A. Chatelain and D. Ugarte. Science270, 523(1995)
  103. S. C. Lim, H. J. Jeong, K. H. An, D. J. Bae andY. H. Lee, Encyclopedia of Nanoscience and Nanotechnology,edited by H. S. Nalwa, American ScientificPublishers, 611 (2004)
  104. J. M. Bonard, J. -P. Salvertat, T. Stockli, W. De.Heer, L. Ferror and A. Chatelain, Appl. Phys. Lett.78, 918 (1999)
  105. J. S. Suh, K. S. Jeong and J. S. Lee, Appl. Phys.Lett. 80, 2392 (2002)
  106. K. A. Dean, T. P. Burgin and B. R. Chalamala,Appl. Phys. Lett. 79, 1873 (2001) https://doi.org/10.1063/1.1381035
  107. K. Hata, M. Ariff, K. Tohji and Y. Saito, Chem.Phys. Lett. 308, 343 (1999)
  108. K. A. Dean and B. R. Chalamala, Appl. Phys. Lett.76, 375 (2000)
  109. S. C. Lim, H. J. Jeong, Y. M. Shin. K. H. An, D.J. Bae, Y. H. Lee, N. S. Lee and J. M. Kim, Adv.Mater. 13, 1536 (2001)
  110. W. Yi, T. Jeong, S. Yu, J. Heo, C. Lee, J. Lee, W.Kim, J. -B. Yoo and J. M. Kim, Adv. Mater. 14,1464 (2002)
  111. S. T. Purcell, P. Vincent, C. Journet and V.T.Binh, Phys. Rev. Lett. 88, 105502-1 (2002) https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.88.105502
  112. Z. L. Wang, R. P. Gao, W. A. de Heer and P. Poncharal,Appl. Phys. Lett. 80, 856 (2002)
  113. W. B. Choi, D. S. jung, J. H. Kang, H. Y. Kim,Y. W. Jin, I. T. Han, Y. H. Lee, J. E. Jung, N. S.Lee, G. S. Park and J. M. Lim, Appl. Phys. Lett.75, 3719 (1999)
  114. N. S. Lee, D. S. Chung, I. T. Han, J. H. Kang, Y.S. Choi, H. Y. Kim, S. H. Park, Y. W. Jin, W. K.Yi, M. J. Yun, J. E. Jung, C. J. Lee, J. H. You, S.H. Jo, C. J. Lee and J. M. Kim, Diamond. Relat.Mater. 10, 265 (2001) https://doi.org/10.1016/S0925-9635(00)00358-7
  115. H. Sugie, M. Tanemura, V. Filip, K. Iwata, K.Takahashi and F. Okuyama, Appl. Phys. Lett. 78,2578 (2001) https://doi.org/10.1063/1.1337631
  116. G. Z. Yue, Q. Qiu, B. Gao, Y. Cheng, J. Zhang, H.Shimoda, S. Chang, J. P. Lu and O. Zhou, Appl.Phys. Lett. 81, 335 (2002)
  117. Y. Saito, S. Uemura and K. Hamaguchi, Jpn. J.Appl. Phys. 37, L346 (1999) https://doi.org/10.1143/JJAP.37.L999
  118. J. M. Bonard, T. Stockli, O. Nouri and A. Chatelain,Appl. Phys. Lett. 78, 2775 (2002) https://doi.org/10.1063/1.1339264
  119. S. J. Tans, M. H. Devoret, H. Dai, A. Thess andR. E. Smalley, Nature 386, 474 (1997)
  120. M. Bockrath, D. H. Cobden, P. L. McEuen, N. G.Chopra, A. Zettl, A. Thess and R. E. Smalley, Science275, 1922 (1997)
  121. H. W. Ch. Postma, T. Teepen, Z. Yao, M. Grifoniand C. Dekker, Science 293, 76 (2001)
  122. W. Liang, M. Bockrath, D. Bozovic, J. H. Hafner,M. Tinkham, H. Park, Nature 411, 665 (2001) https://doi.org/10.1038/35075206
  123. Z. Yao, H. W. Ch. Postma, L. Balents and C.Dekker, Nature 402, 273-276 (18 Nov 1999) https://doi.org/10.1038/46241
  124. S. J. Tans, A. R. M. Verschueren and C. Dekker,Nature 393, 49 (1998)
  125. R. Martel, T. Schmidt, H. R. Shea, T. Hertel andPh. Avouris, Appl. Phys. Lett. 73, 2447 (1998)
  126. Y. -C. Tseng, P. Xuan, A. Javey, R. Malloy, Q.Wang, J. Bokor and H. Dai, Nano Lett.4, 123(2004)
  127. S. J. Wind, J. Appenzeller, R. Martel, V. Deryckeand Ph. Avouris, Appl. Phys. Lett. 80, 3817(2002)
  128. A. Javey, J. Guo, Q. Wang, M. Lundstrom and H.Dai, Nature 424, 654 (2003)
  129. A. Bachtold, P. Hadley, T. Nakanishi and C.Dekker, Science 294, 1317 (2001)
  130. D. Mann, A. Javey, J. Kong, Q. Wang and H. Dai,Nano Lett. 3, 1541 (2003) https://doi.org/10.1021/nl020207l
  131. R. Martel, V. Derycke, C. Lavoie, J. Appenzeller,K. K. Chan, J. Tersoff and Ph. Avouris, Phys. Rev.Lett. 87, 256805 (2001) https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.87.1
  132. K. Bradley, S. -H. Jhi, P. G. Collins, J. Hone, M. L.Cohen, S. G. Louie and A. Zettl, Phys. Rev. Lett.85, 4361 (2000)
  133. J. P. Small, K. M. Perez and P. Kim, Phys. Rev.Lett. 91, 256801 (2003)
  134. S. Heinze, J. Tersoff, R. Martel, V. Derycke, J.Appenzeller and Ph. Avouris, Phys. Rev. Lett. 89,106801 (2002)
  135. A. Javey, H. Kim, M. Brink, Q. Wang, A. Ural, J.Guo, P. McIntyre, P. McEuen, M. Lundstrom andH. Dai, Nature Mater. 1, 241 (2002) https://doi.org/10.1038/nmat723
  136. J. Appenzeller, J. Knoch, V. Derycke, R. Martel, S.Wind and Ph. Avouris, Phys. Rev. Lett. 89, 126801(2002) https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.89.106801
  137. M. J. Biercuk, N. Mason and C. M. Marcus, NanoLett. 4, 1 (2004)
  138. T. Durkop, S. A. Getty, E. Cobas and M. S. Fuhrer,Nano Lett. 4, 35 (2004)
  139. S. J. Wind, J. Appenzeller and Ph. Avouris, Phys.Rev. Lett. 91, 058301 (2003)
  140. K. Fu, W. Huang, Y. Lin, L. A. Riddle, D. L. Carrolland Y. -P. Sun, Nano Lett. 1, 439 (2001)
  141. C. Zhou, J. Kong, E. Yenilmez and H. Dai, Science290, 1552 (2000)
  142. V. Derycke, R. Martel, J. Appenzeller and Ph.Avouris, Nano Lett. 1, 453 (2001) https://doi.org/10.1021/nl010040g
  143. J. Kong, N. R. Franklin, C. Zhou, M. G. Chapline,S. Peng, K. Cho, and H. Dai, Science 287, 622(2000)
  144. K. G. Ong and C. A. Grimes, Sensors 1, 193,(2001) https://doi.org/10.3390/s10100001
  145. J. -S. Ye, Y. Wen, W. D. Zhang, H. -F. Cui, L. M.Gan, G. Q. Xu and F. -S. Sheu, J. ElectroanalyticalChem. 562, 241 (2004)
  146. P. Qi, O. Vermesh, M. Grecu, A. Javey, Q. Wang,H. Dai, S. Peng and K. J. Cho, Nano Lett. 3, 347(2003) https://doi.org/10.1021/nl020207l
  147. A. Modi, N. Koratkar, E. Lass, B. Wei and P. M.Ajayan, Nature 424, 171 (2003)
  148. C. Niu, E. K. Sichel, R. Hoch, D. Moy and H. Tennent,Appl. Phys. Lett. 70, 1480 (1997)
  149. R. Z. Ma, J. Liang, B. Q. Wei, B. Zhang, C. L. Xuand D. H. Wu, J. Power sources 84, 126 (1999)
  150. E. Frackowiak, K. Metenier, V. Bertagna and F.Beguin, Appl. Phys. Lett. 77, 2421 (2000)
  151. E. Frackowiak and F. Beguin, Carbon 39, 937(2001) https://doi.org/10.1016/S0008-6223(00)00217-7
  152. K. H. An, W. S. Kim, Y. S. Park, Y. C. Choi, S.M. Lee, D. C. Chung, D. J. Bae, S. C. Lim and Y.H. Lee, Adv. Mater. 13, 497 (2001)
  153. K. H. An, W. S. Kim, Y. S. Park, J. -M. Moon, D.J. Bae, S. C. Lim, Y. S. Lee and Y. H. Lee, Adv.Funct. Mater. 11, 387 (2001)
  154. K. Jurewicz, S. Delpeux, V. Bertagna, F. Beguinand E. Frackowiak, Chem. Phys. Lett. 347, 36(2001) https://doi.org/10.1016/S0009-2614(01)01036-3
  155. E. Frackowiak, K. Jurewicz, S. Delpeux and F. Beguin,J. Power Sources 97-98, 822 (2001) https://doi.org/10.1016/S0378-7753(01)00596-1
  156. J. S. Sakamoto and B. Dunn, J. Electrochem. Soc.149, A26 (2002)
  157. W. X. Chen, J. Y. Lee and Z. Liu, Electrochem.Commun. 4, 260 (2002)
  158. T. P. Kumar, R. Ramesh, Y. Y. Lin and G. T. -K.Fey, Electrochem. Commun. 6, 260 (2004)
  159. Q. Wang, and J. K. Johnson, J. Chem. Phys. 110,577 (1998)
  160. Q. Wang and J. K. Johnson, J. Phys. Chem. B.103, 277 (1999)
  161. Q.Wang and J. K. Johnson, J. Phys. Chem. B.103,4809 (1999)
  162. M. Rzepka, P. Lamp and M. A. de la Casa-Lillo, J.Phys. Chem. B. 102, 10894 (1998)
  163. F. Darkrim, J. Vermesse, P. Malbrunot and D.Levesque, J. Chem. Phys. 110, 4020 (1999)
  164. F. Darkrim and D. Levesque, J. Phys. Chem. B.104, 6773 (1999)
  165. Y. F. Yin, T. Mays and B. McEnaney, Langmuir16, 10521 (2000)
  166. K. A. Williams and P. C. Eklund, Chem. Phys.Lett. 320, 352 (2000)
  167. S. M. Lee and Y. H. Lee, Appl. Phys. Lett. 76,2877 (2000)
  168. S. M. Lee, K. S. Park, Y. C. Choi, Y. S. Park, J.M. Bok, D. J. Bae, K. S. Nahm, Y. G. Choi, S. C.Yu, N. Kim, T. Frauenheime and Y. H. Lee, Synth.Met. 113, 209 (2000)
  169. S. M. Lee, K. H. An, W. S. Kim, Y. H. Lee, Y. S.Park, G. Seifert and T. Frauenheim, Synth. Met.121, 1189 (2001)
  170. S. M. Lee, K. H. An, Y. H. Lee, G. Seifert and T.Frauenheim, J. Am. Chem. Soc. 123, 5059 (2001) https://doi.org/10.1021/ja002793v
  171. Y. Ma, Y. Xia, M. Zhao, R. Wang and L. Mei,Phys. Rev. B 63, 115422 (2001) https://doi.org/10.1146/annurev.physiol.63.1.1
  172. K. Tada, S. Furuya and K. Watanabe, Phys. Rev.B 63, 155405 (2001) https://doi.org/10.1146/annurev.physiol.63.1.1
  173. C. W. Bauschlicher, Jr., Chem. Phys. Lett. 322,237 (2000)
  174. C. W. Bauschlicher, Jr., Nano Lett. 1, 223 (2001) https://doi.org/10.1021/nl0001914
  175. H. Cheng, G. P. Pez and A. C. Cooper, J. Am.Chem. Soc. 123, 5845 (2001) https://doi.org/10.1021/ja002793v
  176. A. Chambers, C. Park, R. T. K. Baker and N. M.Rodriguez, J. Phys. Chem. B. 102, 4253 (1998)
  177. C. Park, P. E. Anderson, A. Chambers, C. D. Tan,R. Hidalgo and N. M. Rodriguez, J. Phys. Chem.B. 103, 10572 (1999)
  178. C. C. Ahn, Y. Ye, B. V. Ratnakumar, C. Witham,R. C. Bowman, Jr., and B. Fultz, Appl. Phys. Lett.73, 3378 (1998)
  179. Y. -Y. Fan, B. Liao, M. Liu, Y. -L. Wei, M. -Q. Lu,and H. -M. Cheng, Carbon 37, 1649 (1999)
  180. H. M. Cheng, C. Liu, Y. Y. Fan, F. Li, G. Su, H.T. Cong, L. L. He and M. Liu, Metallkunde 91,306 (2000)
  181. C. Liu, Y. Y. Fan, M. Liu, H. T. Cong, H.M. Chengand M. S. Dresselhaus, Science 286, 1127 (1999)
  182. Y. Ye, C. C. Ahn, C. Witham, B. Fultz, J. Liu,A. G. Rinzler, D. Colbert, K. A. Smith and R. E.Smalley, Appl. Phys. Lett. 74, 2307 (1999)
  183. M. Ritschel, M. Uhlemann, O. Gutfleisch, A. Leonhardt,A. Graff, Ch. Taschner and J. Fink, Appl.Phys. Lett. 80, 2985 (2002)
  184. M. S. Dresselhaus and G. Dresselhaus, Adv. Phys.30, 139 (1981)
  185. P. Chen, X.Wu, J. Lin and K. L. Tan, Science 285,91 (1999) https://doi.org/10.1126/science.285.5430.999
  186. R. T. Yang, Carbon 38, 623 (2000)
  187. F. E. Pinkerton, B. G. Wicke, C. H. Olk, G. G.Tibbetts, G. P. Meisner, M. S. Meyer and J. F.Herbst, J. Phys. Chem. B. 104, 9460 (2000)
  188. M. de Forcrand, Ann. Chim. Phys. 15, 433 (1908)
  189. V. Skakalova, A. Quintel, Y. -M. Choi, S. Roth, M.Becher and M. Hirscher, Chem. Phys. Lett. 365,333 (2002)
  190. A. C. Dillon, K. M. Jones, T. A. Bekkedahl, C.H. Kiang, D. S. Bethune and M. J. Heben, Nature386, 377 (1997)
  191. K. Yamada, Carbon 41, 1309 (2003) https://doi.org/10.1016/S0008-6223(02)00262-2
  192. J. -P. Salvetat, G. A. D. Briggs, J. -M. Bonard, R.R. Bacsa, A. J. Kulik, T. Stockli, N. A. Burnhamand L. Forro, Phys. Rev. Lett. 82, 944 (1999)
  193. D. Qian, E. C. Dickey, R. Andrews and T. Rantell,Appl. Phys. Lett. 76, 2868 (2000)
  194. R. Z. Ma, J. Wu, B. Q. Wei, J. Liang and D. H.Wu, J. Mater. Sci. 33, 5243 (1998)
  195. J. Sandler, M. S. P. Shaffer, T. Prasse, W.Bauhofer, K. Schulte and A. H. Windle, Polymer40, 5967 (1999)
  196. B. Isa, K. Randy and R. Richard, J. Power Sources109, 71 (2002)
  197. T. M. Besmann, J. W. Klett, J. J. Henry, Jr. andE. Lara-Curzio, J. Electrochem. Soc. 147, 4083(2000)
  198. C. Makkus, A. H. H. Janssen, F. A. de Bruijn andR. K. A. M. Mallant, J. Power Sources 86, 274(2000)
  199. W. X. Chen, J. Y. Lee and Z. Liu, Carbon 41, 959(2003) https://doi.org/10.1016/S0008-6223(02)00262-2
  200. H. J. Liu, Z. M. Li, Q. Liang, Z. K. Tang and C.T. Chan, Appl. Phys. Lett.84, 2649 (2004) https://doi.org/10.1063/1.1637949
  201. H. Dai, J. H. Hafner, A. G. Rinzler, D. T. Colbertand R. E. Smalley, Nature 384, 147 (1996)
  202. J. H. Hafner, C. L. Cheung and C. M. Lieber, Nature398, 761 (1999)
  203. P. Poncharal, Z. L. Wang, D. Ugarte and W. A. deHeer, Science 283, 1513 (1999)
  204. R. H. Baughman, C. Cui, A. A. Zakhidov, Z. Iqbal,J. N. Barisci, G. M. Spinks, G. G.Wallace, A. Mazzoldi,D. De Rossi, A. G. Rinzer, O. Jaschinski, S.Roth and M. Kertesz, Science 284, 1340 (1999)
  205. O. Inganas and I. Laundstrum, Science 286, 1281(1999) https://doi.org/10.1126/science.286.5444.1513
  206. P. Kim and C. M. Liber, Science 286, 2148 (1999) https://doi.org/10.1126/science.286.5443.1340
  207. C. A. Mirkin, Science 286, 2095 (1999)
  208. J. Cumings and A. Zettl, Science 289, 602 (2000)
  209. J. Cumings and A. Zettl, Nature in press (2000)
  210. L. Forro, Science 289, 560 (2000) https://doi.org/10.1126/science.289.5479.602
  211. P. L. McEuen, Nature 393, 15 (1998)
  212. M. S. Fuhrer, J. Nygard, L. Shin, M. Forero, Y. -G.Yoon, M. S. C. Mazzoni, H. J. Choi, J. Ihm, S. G.Louie, A. Zettl and P. L. McEun, Scinece 288, 494(2000)
  213. P. G. Collins, M. S. Arnold and P. Avouris, Science292, 706 (2001)
  214. K. S. Kim, D. J. Bae, J. R. Kim, K. A. Park, S. C.Lim, J. J. Kim, W. B. Choi, C. Y. Park and Y. H.Lee, Adv. Mater. 14, 1818 (2002)
  215. A. M. Fennimore, T. D. Yuzvinsky, W. -Q. Han, M.S. Fuhrer, J. Cumings and A. Zettl, Nature 424,408 (2003)
  216. B. C. Regan, S. Aloni, R. O. Ritchie, U. Dahmenand A. Zettl, Nature 428, 924 (2004)
  217. K. Hata, D. N. Futaba, K. Mizuno, T. Namai, M.Yumura and S. Iijima, Science 306, 1362 (2004)
  218. H. J. Jeong, K. H. An, S. C. Lim, M. S. Park, J. S.Chang, S. E. Park, S. J. Eum, C. W. Yang, C. Y.Park and Y. H. Lee, Chem. Phys. Lett, 380, 263(2003)
  219. R. Krupke, F. Hennrich, H. V. Lh¨oneysen and M.M. Kappes, Science 301, 344 (2003)
  220. D. Chattopadhyay, I. Galeska and F. Papadimitrakopoulos,J. Am. Chem. Soc.125, 3370 (2003)
  221. K. H. An, J. S. Park, C. M. Yang, S. Y. Jeong, S.C. Lim, C. Kang, J. H. Son, M. S. Jeong and Y. H.Lee, J. Am. Chem. Soc. 127, 5196 (2005)
  222. M. S. Strano, C. A. Dyke, M. L. Usrey, P. W.Barone, M. J. Allen, H. Shan, C. Kittrell, R. H.Hauge, J. M. Tour and R. E. Smalley, Science 301,1519 (2003)
  223. Y. Huang, X. Duan, Q. Wei and C. M. Lieber, Science291, 630 (2001)
  224. Science v.301 Strano, M.S.;Dyke, C.A.;Usrey, M.L.;Barone, P.W.;Allen, M.J.;Shan, H.;Kittrell, C.;Hauge, R.H.;Tour, J.M.;Smalley, R.E.
  225. Science v.291 Huang, Y.;Duan, X.;Wei, Q.;Lieber, C.M.