Abstract
We present a technique for fabricating low leakage organic field-effect transistors by a functional polydimethylsiloxane (PDMS) layer. The technique relies on the photo-chemical process of conversion of the PDMS to a silicon oxide which provides the selective growth of pentacene thin films. The reduced gate leakage current showed ${\sim}10^{-10}$ A in a linear ($V_d=-5\;V$) and saturation ($V_d=-30\;V$) region at $V_g-V_t>0$.
Polydimethylsiloxane (PDMS) 기능성 박막을 도입하여 적은 게이트 누설 전류 특성을 가지는 유기트랜지스터를 제작하고 평가하였다. UV/ozone 처리를 하여 PDMS 표면에 위치한 소수성의 메틸 그룹의 화학적 결합을 끊어 친수성 실리콘 산화막 성질로 표면을 변화시키고 선택적인 펜타신 증착을 유도하였다. Off 전압상태 ($V_g-V_t>0$)에서 게이트 전압에 의해 기인하는 누설 전류는 선형영역 ($V_d=-5\;V$)과 포화영역 ($V_d=-30\;V$)에서 ${\sim}10^{-10}$ A의 값을 보여주며 기존의 트랜지스터 보다 개선된 누설 전류 특성을 나타내었다.